Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Who already wins at this buyer
Firms with recorded awards from Friedrich-Schiller-Universität Jena in this tender’s CPV categories — the incumbents you are bidding against.
| Firm | Wins | Awarded | Last win |
|---|---|---|---|
| Analytik Jena GmbH+Co. KG | 1 | €623,706 | 2026-06-30 |
| Nanoscribe GmbH & Co. KG | 1 | €588,157 | 2026-05-28 |
| PicoQuant GmbH | 1 | €436,320 | 2026-06-09 |
| Sirah Lasertechnik GmbH | 1 | €324,364 | 2026-05-28 |
| THORLABS GmbH | 1 | €200,146 | 2026-05-28 |
Full buyer profile: what Friedrich-Schiller-Universität Jena buys and who wins it →
CPV codes
38000000 Laboratory, optical & precision equipmentDescription
Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.
Similar tenders
Closest by meaning — across languages, via embeddings.
| Published | Title | Buyer | Match |
|---|---|---|---|
| 2026-06-11 | Vorinformation – Beschaffung eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems für Halbleiterprozesse | Ferdinand-Braun-Institut gGmbH Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik DE | 85% |
| 2026-06-12 | elektrooptische Kristalle | Friedrich-Schiller-Universität Jena DE | 85% |
| 2026-06-25 | Beschaffung eines Substrathandlers für die Ionenstrahlanlage RIBF1000 | Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. DE | 85% |
| 2026-06-04 | Röntgendetektorkonfiguration für ein Raster-Elektronenmikroskop | Robert Koch-Institut DE | 84% |
| 2026-06-04 | Lieferung einer speziellen Röntgendetektorkonfiguration für ein Raster-Elektronenmikroskop zur Analyse von leichten Elementen in dünnen Schichten | Robert Koch-Institut (RKI) DE | 84% |
| 2026-07-01 | Lieferung und Installation einer Elektronenstrahllaboranlage inkl. Schulung | Hochschule für Technik und Wirtschaft Dresden DE | 84% |